| CMP中新型碱性阻挡层抛光液的性能 |
| 栾晓东;刘玉岭;王辰伟;高娇娇;张文倩; |
| 关键词：化学机械抛光(CMP);阻挡层;选择比;稳定性;清洗 |
| 主要内容：介绍了一种不含腐蚀抑制剂苯并三氮唑(BTA)和氧化剂的弱碱性阻挡层抛光液。通过测量抛光液的pH值、Zeta电位、黏度、粒径大小及粒径分布随放置时间的变化来研究抛光液的稳定性;该抛光液与商业阻挡层抛光液进行比较,通过测试抛光后的晶圆表面状态, |
| 《微纳电子技术》 2015,52(10):671-675 |
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