| 刍议SiO_2膜在IC工艺中的应用及其制备方法 |
| 余建;张科新; |
| 关键词：二氧化硅;绝缘;隔离;阻挡 |
| 主要内容：二氧化硅膜(Si O2)由于具有理想的绝缘性能以及其致密的结构,在IC制造工艺中,可用于多层互联线的隔离以及掺杂时的掩蔽阻挡,具有广泛的应用。本文简要介绍几种主要的Si O2的制备技术和应用,并探讨其新型的制备技术。 |
| 《电子技术与软件工程》 2015,(19):257-259 |
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