| 低温等离子体剥蚀-电感耦合等离子体质谱联用对电路板镀层的深度分析 |
| 杨萌;李铭;薛蛟;赵欣;黄秀;冯璐;邢志; |
| 关键词：低温等离子体;介质阻挡放电;剥蚀;深度分析;电路板;电感耦合等离子体质谱 |
| 主要内容：建立了基于低温等离子体(Low temperature plasma)剥蚀系统将固体样品直接引入电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)并用于电路板镀层中Au,Ni和Cu的深度分析。此实验中采用介质阻挡放电(DBD)方式产生低温等离子体探针,逐 |
| 《分析化学》 2015,43(05):709-713 |
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