| 多晶电阻工艺监控与影响因素研究 |
| 张世权;马慧红;吴晓鸫; |
| 关键词：多晶电阻;晶粒;淀积速率;四探针法测试电阻 |
| 主要内容：首先介绍了多晶电阻在线监控和工艺控制模块(PCM)监控的两种方法:四探针法和范德堡法,并解决了四探针法在线监控方法多晶电阻波动大的问题;针对生产过程中遇到的多晶电阻偏小问题,通过扫描电镜分析发现多晶晶粒明显偏大,通过对多晶淀积速率的分析确定 |
| 《电子与封装》 2015,15(05):33-35+40 |
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