| 化学气相沉积_原子层沉积铜前驱体的研究进展 |
| 国政;陈强;王正铎;桑利军;杨丽珍;葛新昱;刘忠伟; |
| 关键词：铜薄膜;前驱体;化学气相沉积;原子层沉积 |
| 主要内容：随着微电子领域的快速发展,用于集成电路中器件互连的铜薄膜要求具有无缺陷并且高纯度等特征。本文介绍了利用化学气相沉积技术与原子层沉积技术沉积铜薄膜工艺的研究;特别是,综述了铜-卤素、β-二酮、烷氧、脒基、胍基、环戊二烯基等各类铜前驱体的研究现 |
| 《真空科学与技术学报》 2015,35(10):1282-1290 |
| 全文下载请进入http://hightech.stlib.cn/tpi_1/sysasp/include/index.asp |
微信公众号