产业集群决策
 
集成电路工艺外延图形漂移剖析
 
宋玲玲;李浩;王利斌;
关键词：外延;漂移;校正
 
主要内容：外延结构的生长特性决定了埋层图形在外延层上漂移的现象,这种现象会给工艺带来危害,导致产品失效。在实际工艺中,通常是通过一定的校正原则来抵消埋层漂移的影响。另外,最后还给出了隔离击穿电压的测试分析方法。
 
《微处理机》  2015,36(01):19-21+24
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