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纳米工艺下集成电路物理集成设计人才的培养探索
林远镇;韦素芬;潘金艳;
关键词:设计流程;物理集成;FinFET工艺;人才培养
主要内容:本文介绍16nm FinFET工艺下集成电路的物理集成流程,分析了先进工艺下物理集成工程师所面临的问题和挑战。为了更好地适应新的要求,对我国高校IC人才培养的相关环节提出了探索性的建议。
《电子世界》 2015,(23):57-58
全文下载请进入http://hightech.stlib.cn/tpi_1/sysasp/include/index.asp
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