| 真空二流体制作35μm_35μm细线路的研究 |
| 陈华丽;林辉;钟文光; |
| 关键词：细线路;真空二流体蚀刻 |
| 主要内容：文章尝试了采用真空二流体蚀刻试做35μm/35μm线路的可行性。经过实验证明:采用DES工艺&搭配合适的蚀刻设备,如真空二流体蚀刻机,可以把细线路制作等级提升到35μm/35μm;能获得大于3的蚀刻因子,局部区域的蚀刻因子更是高达14.99 |
| 《印制电路信息》 2015,23(03):35-39 |
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