| 5nm生产线的挑战 |
| 莫大康; |
| 关键词：集成电路制造;5nm;EUV光刻;finFET;纳米线FET |
| 主要内容：集成电路芯片的制造技术已经进入16/14nm时代,10nm甚至7nm时基本上可以使用现在同样的制造设备,似乎已无悬念。业界普遍认为5nm肯定是个坎,如果EUV光刻设备不能准备好,逼迫要采用五次图形曝光技术(FP)。另一方面,晶体管结构的创新 |
| 《集成电路应用》 2016,(03):22-24 |
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