| EUV微影技术与7nm工艺 |
| 麦利; |
| 关键词：集成电路制造;微影技术;EUV;7nm工艺 |
| 主要内容：集成电路的制造技术下一步将进入7nm节点,业界期待极紫外光(EUV)微影技术的成熟并广泛推广应用,期望EUV能用来制造更小、更便宜的晶片。数据表明,EUV仍然缺少具有高功率,足够可靠的光源来保证目前晶圆厂每天所要求的晶圆产能。 |
| 《集成电路应用》 2016,(04):24-25 |
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