半导体设计前端突出差异化 工艺向10nm以下进发——专访ICCAD 2015与会8位著名EDA、Foundry公司高管
 
杨庆广;

关键词:ICCAD 2015;Foundry;半导体产业;EDA;前端;差异化;nm;
 
主要内容:伴随着IP应用日渐普遍,半导体产业面临着同质化竞争的问题,同时随着工艺向28 nm乃至10 nm以下发展,设计日趋复杂,同时设计成本也在急速上升,这也对产业发展带来了新的挑战。如何应对这些挑战,《电子技术应用》记者在ICCAD2015上采访
 
《电子技术应用》  2016,42(01):1-2+4
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