| 集成电路光刻工艺研究 |
| 王恺; |
| 关键词：集成电路;光刻;工艺;光刻胶 |
| 主要内容：光刻是利用特定工艺将掩膜板上的集成电路图形印制到硅片上的精密表面加工技术。在集成电路制造工艺中,光刻是最为重要的工艺之一。它决定着芯片的最小特征尺寸,占芯片制造时间的40-50%,并且占制造成本的30%。本文通过对光刻工艺的主要步骤的分析, |
| 《山东工业技术》 2016,(24):12 |
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