| 小尺寸器件的金属栅平坦化新技术 |
| 赵治国;殷华湘;朱慧珑;张永奎;张严波;秦长亮;张青竹;张月;赵超; |
| 关键词：高k金属栅;反应离子刻蚀;介质再沉积;化学机械平坦化 |
| 主要内容：随着高k金属栅工程在45 nm技术节点上的成功应用,该技术已成为亚30 nm以下技术节点不可缺少的关键模块化工程。同时,如何保证高k金属栅能够在集成过程中得到有效的平坦化,保证器件正常性能也成为了金属后栅工艺的关键技术之一。本文提出的的金属 |
| 《真空科学与技术学报》 2016,36(09):1030-1033 |
| 全文下载请进入http://hightech.stlib.cn/tpi_1/sysasp/include/index.asp |
微信公众号