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CMP超精密抛光元件兆声波清洗工艺和应用

刘玉林;

关键词：化学机械抛光;超精密抛光;兆声波;清洗工艺

主要内容：分析了CMP后电子元件表面清洗存在的问题,综述了CMP后清洗技术的发展现状,详细阐述了兆声波清洗技术的原理、工艺流程、工艺参数及特点,介绍了兆声波清洗在CMP超精抛光加工技术中的应用与前景。

《清洗世界》 2017,33(12):43-45

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