CMP后清洗中非离子表面活性剂对Cu表面状态的影响
 
杨柳;檀柏梅;高宝红;李凤英;李海清;

关键词:非离子表面活性剂;碱性清洗剂;表面张力;表面粗糙度;化学机械平坦化(CMP)后清
 
主要内容:为解决化学机械平坦化(CMP)后Cu表面存在表面粗糙度大、侵蚀等问题,以表面活性剂为基础研制新型碱性清洗剂。采用对比实验研究了脂肪醇聚氧乙烯醚(JFC)、聚乙二醇(PEG)、高碳脂肪醇聚氧乙烯醚(AEO)和FA/O四种非离子表面活性剂的表面
 
《微纳电子技术》  2017,54(10):710-714+724
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