| EUV光刻技术与摩尔定律 |
| 邹志同; |
| 关键词：晶圆制造;摩尔定律;EUV光刻;ASML |
| 主要内容：光刻技术要数现代集成电路上的第一大难题。光蚀刻系统制造的精细程度取决于很多因素。但是实现跨越性进步的有效方法是降低使用光源的波长。现在,晶圆制造的工艺技术发展的确到了一个转折点。有人认为EUV光刻能够拯救摩尔定律,但事实是否真的如此还有待验 |
| 《集成电路应用》 2017,34(03):50-52 |
| 全文下载请进入http://hightech.stlib.cn/tpi_1/sysasp/include/index.asp |
微信公众号