| FinFET之后的集成电路制造工艺研究 |
| Mark LaPedus;电姬; |
| 关键词：芯片制造研究;鳍式场效电晶体管;FinFET;纳米片;纳米线 |
| 主要内容：芯片制造商已经在基于10 nm和/或7 nm Fin FET准备他们的下一代技术了,但我们仍然还不清楚FinFET还能坚持多长时间、用于高端设备的10 nm和7 nm节点还能延展多久以及接下来会如何。在5 nm、3 nm以及更小节点,半导体 |
| 《集成电路应用》 2017,34(09):58-63 |
| 全文下载请进入http://hightech.stlib.cn/tpi_1/sysasp/include/index.asp |
微信公众号