| N-Well BiCMOS[B]芯片与制程剖面结构 |
| 潘桂忠; |
| 关键词：集成电路制造;工艺;N-Well BiCMOS[B];剖面结构 |
| 主要内容：N-Well BiCMOS[B]技术能够实现双极型与CMOS元器件兼容的工艺。为了便于集成,采用双极型制程为基础,引入CMOS元器件工艺,在同一硅衬底上实现兼容的Bi CMOS[B]工艺。采用Bi CMOS[B]集成电路芯片结构设计、工艺与 |
| 《集成电路应用》 2017,34(11):42-46 |
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