| 光刻照明系统中复眼透镜的设计及公差分析 |
| 李美萱;王美娇;王丽;冷雁冰;董连和; |
| 关键词：浸没式光刻;高均匀性照明;分辨率;光学设计;公差分析 |
| 主要内容：在超大规模集成电路中,为了实现NA=1.35,波长193 nm处分辨率达到45 nm的目标,需要对影响光刻照明均匀性的误差源进行详细分析最终确定公差范围。复眼透镜是使光束在系统掩膜面上形成矩形均匀照明区域的关键元件。采用CODE V软件设计 |
| 《激光与红外》 2017,47(07):842-847 |
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