| 基于螯合剂与活性剂的Cu-CMP清洗液对BTA去除的影响 |
| 杨柳;刘玉岭;檀柏梅;高宝红;刘宜霖; |
| 关键词：CMP后清洗;BTA去除;螯合剂;活性剂;表面粗糙度 |
| 主要内容：以螯合剂与活性剂为材料,利用难溶物质微弱电离平衡、螯合剂络合机理以及活性剂的铺展、润湿以及渗透作用,结合有机物结构相似相溶原理,研制新型碱性清洗液,用于有效去除Cu-CMP后的苯并三氮唑(BTA)。通过接触角测试、电化学实验以及原子力显微镜 |
| 《微纳电子技术》 2017,54(11):791-796 |
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