| 基于粒子群优化算法的光刻机光源掩模投影物镜联合优化方法 |
| 王磊;李思坤;王向朝;杨朝兴; |
| 关键词：光学制造;光刻;分辨率增强技术;光源掩模投影物镜联合优化;粒子群优化 |
| 主要内容：全芯片多参数联合优化是光刻分辨率增强技术的重要发展方向。提出了一种基于粒子群优化(PSO)算法的光源掩模投影物镜联合优化(SMPO)方法。将由像素表征的光源、由离散余弦变换基表征的掩模及由泽尼克系数表征的投影物镜编码为粒子,以图形误差作为评 |
| 《光学学报》 2017,37(10):264-275 |
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