| 集成电路无损缺陷分析方法探讨 |
| 方文潮; |
| 关键词:集成电路;弱磁探测;无损分析;缺陷;失效 |
| 主要内容:集成电路失效/缺陷分析是可靠性分析的重要手段,目前的分析技术不能满足亚微米级集成电路无损分析需求。该文提出一种解决方案,利用弱磁探测技术无损绘制内部3维线路图和电流密度分布图,从而判断制作工艺是否存在缺陷,或者集成电路是否失效。被检测后的集 |
| 《电子质量》 2017,(06):99-102 |
| 全文下载请进入http://hightech.stlib.cn/tpi_1/sysasp/include/index.asp |