| 碱性铜精抛液中表面活性剂ADS对平坦化效果的影响 |
| 王彦;王胜利;王辰伟;田胜骏;腰彩红;田骐源; |
| 关键词：铜精抛液;化学机械抛光(CMP);十二烷基硫酸铵(ADS);片内非均匀性(WIW |
| 主要内容：研究了阴离子表面活性剂十二烷基硫酸铵(ADS)在弱碱性铜抛光液中对晶圆平坦化效果的影响。对不同质量分数的阴离子表面活性剂ADS下的抛光液表面张力、铜去除速率、抛光后铜膜的碟形坑高度、晶圆片内非均匀性和表面粗糙度进行了测试。实验结果表明,当阴 |
| 《半导体技术》 2017,42(11):838-843 |
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