| 先进集成电路技术发展现状分析 |
| 张卫; |
| 关键词：集成电路技术;22/20 nm;FinFET;平面体硅;存储器技术;3D NAN |
| 主要内容：集成电路技术到22/20 nm节点,世界技术先进厂商和技术研究机构出现了分歧,如Intel率先采用Fin FET技术,而TSMC继续沿用平面体硅技术。未来,在摩尔定律的主旋律下,国际主要集成电路企业技术发展路线在各个节点不尽相同,各显神通。 |
| 《集成电路应用》 2017,34(09):22-27 |
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