| 新型GLSI弱碱性铜抛光液稳定性研究 |
| 腰彩红;牛新环;赵欣;王辰伟;刘玉岭; |
| 关键词：稳定性;弱碱性;铜抛光液;四乙基氢氧化铵(TEAH);pH值 |
| 主要内容：随着极大规模集成电路(GLSI)技术节点逐渐降低至28 nm,多层铜布线化学机械抛光过程中弱碱性抛光液的稳定性成为人们研究的热点。以四乙基氢氧化铵作为pH调节剂,配制不同pH值的新型弱碱性抛光液,研究各组抛光液的pH值、粒径、Zeta电位以 |
| 《半导体技术》 2017,42(12):913-917 |
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