| 新一代芯片绝缘体号称性能超越氮化硅 |
| 关键词：绝缘体;良率;新一代;芯片性能;氮化硅;四氮化三硅;氮化物; |
| 主要内容：IBM发表了新型绝缘体材料配方,号称能有效提升先进制程芯片性能与良率。IBM在近日于美国硅谷举行的年度IEEE国际可靠度物理研讨会(International Reliability Physics Symposium,IRPS)上发表了新 |
| 《半导体信息》 2017,(02):7-8 |
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