| 一种降低光刻工艺中静电损伤的方法 |
| 沈今楷;刘春玲;王星杰; |
| 关键词：光刻;静电;工艺导致的损伤;等离子体 |
| 主要内容：集成电路光刻工艺中,由于静电造成晶圆缺陷、电学失效或者低良率的情况时有发生。这是一种低成本的工艺方法(低功率等离子体轰击),释放积聚在晶圆表面的静电,主要研究了静电产生的机制、降低静电损伤的效果和内在机制。 |
| 《集成电路应用》 2017,34(03):53-55 |
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