| 等离子体增强的MCVD法制备的低损耗单模光纤 |
| 洪伟年; |
| 关键词：单模光纤;损耗;沉积速率;光导纤维;损失 |
| 主要内容：光导制造技术的迅速进展产生了许多种能拉制出在0.8～1.7μm范围内光衰减达到理论值下限的单模光纤的制造工艺。最近,工艺研究的重点正在朝向提高这些高质量光导预制件的制造速度,以获得经济利益。在光导预制件的制造过程中,决定速度的关键工艺是芯和 |
| 《传输线技术》 1982,(05):11 |
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