| 芯片功耗与工艺参数变化_下一代集成电路设计的两大挑战 |
| 骆祖莹. |
| 关键词：集成电路(IC);;纳米工艺;;功耗;;性能;;低功耗设计;;工艺参数变化 |
| 主要内容：目前Intel、AMD、IBM等国际著名厂商均将其集成电路生产工艺全面转入65nm制程,对于以高性能为目标的高端芯片设计,受到了来自成本、设计与测试复杂性等方面的诸多挑战．文中主要论述了其中两个重要而具体的挑战:高功耗和日益显著的工艺参数变化(process variation)．首先分析了纳米工艺下芯片功耗的组成、高功耗的诸多危害和目前主要的低功耗设计方法;然后分析了工艺参数变化的组成,较大工艺参数变化对电路设计的影响以及电路性能分析、功耗分析和低功耗设计的统计式算法;最后结合笔者的研究工作,简单地对下一代集成电路设计的相关研究热点进行预测． |
| 《计算机学报》 2007,(7):1054-1063 |
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