| Pd颗粒表面修饰ZnO纳米线阵列的制备及其气敏特性 |
| 杨志博;曹培江;韩舜;刘新科;柳文军;贾芳;曾玉祥;许望颖;朱德亮;吕有明; |
| 关键词：气敏特性;ZnO纳米线;Pd颗粒;表面修饰 |
| 主要内容：采用化学气相沉积(CVD)方法在SiO_2/Si衬底生长了ZnO纳米线阵列,纳米线长约为15μm,直径为100~500 nm。通过改变溅射沉积时间(0~150 s),在ZnO纳米线表面包覆了不同厚度的Pd薄膜。在Ar气氛中,经800℃高温退 |
| 《发光学报》 2017,38(08):1033-1038 |
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