| 硅纳米线的制备及其光电性能 |
| 夏宏拓;张麒麟;刘彩云;刘展鹏;张平; |
| 关键词：纳米硅线;光电性能;光电化学分解水 |
| 主要内容：采用金属辅助化学刻蚀的方法制备了作为光电阴极的纳米硅线,探索了纳米硅线的最佳生长条件。SEM表明所制备的纳米硅线具有典型的纳米阵列结构,反射率测试表明其可见光反射率在2%以下。纳米硅线光电阴极的光电化学分解水测试结果表明,由于所制备的硅纳米 |
| 《广州化工》 2017,45(14):61-63+72 |
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