| PCVD硬膜的现状与展望 |
| 李世直 |
| 关键词：PCVD 等离子体化学气相沉积 硬膜 金刚石膜 加热 化学气相沉积法 光导纤维 合成金刚石 低压合成 制备 |
| 主要内容：等离子体化学气相沉积(PCVD)在集成电路元件，光导纤维，太阳能电池等领域中已得到广泛应用。近年来，用PCVD或加热棘的化学气相沉积法，合成金刚石和金刚石膜取得了世人注目的进展。由于低压合成金刚石获得成功的启发，用类似方法制备立方BN膜的研究也已开始并取得了初步成功 |
| 《表面工程》 1989(4).-21-27 |
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