| 氢化物发生_ICP发射光谱测定纯钨中砷 |
| 熊兴南,曲培秀 |
| 关键词：氢化物发生;光谱测定;ICP;测定下限;发射光谱法;杂质测定;分析线;升/分;完全还原;钨酸盐; |
| 主要内容：纯钨中杂质测定,国内外主要采用电弧发射光谱法,As的测定多以2349.84 A作分析线,测定下限约为0.001%,该谱线因受W2349.82A重迭干扰,故测定下限与准确度均难以满足工艺要求。ICP发射 |
| 《分析测试通报》 1986(3).55-56 |
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