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阴极电弧沉积TiN薄膜研究
谢致薇,罗广南,袁镇海,戴达煌
关键词:真空阴极电弧沉积;TiN薄膜
主要内容:对真空阴极电弧沉积TiN装饰膜的沉积工艺和膜层性能的关系进行了研究。结果表明:适当选择N_2分压和负偏压对于改善基体表面离子轰击清洗效果、减少液滴分布、保证膜层颜色和提高膜层耐蚀性至关重要。另外,X射
《真空科学与技术》 1992(5).403-407
全文下载请进入http://hightech.stlib.cn/tpi_1/sysasp/include/index.asp
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