| 直流等离子射流CVD法合成金刚石膜的研究 |
| 周克崧;王德政;王健;韩培刚;冯碧洸; |
| 关键词：金刚石膜;等离子射流;化学气相沉积 |
| 主要内容：采用直流等离子CVD法,以甲烷作碳源,在钼、硅、钨和石英等基体上合成了高质量的金刚石膜。其生长速率达60μm/h。合成的金刚石膜呈半透明状,膜的表面形貌随着沉积条件的变化而变化。X射线衍射结果表明,在 |
| 《广东有色金属学报》 1991(2).129-132 |
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