| 直流等离子射流法制备金刚石薄膜 |
| 韩培刚,周克崧,王德政,王健,冯碧洸 |
| 关键词：等离子射流法;金刚石薄膜;合成制备;衬底材料;电源功率;非晶碳;粒度比;沉积率;衍射峰;应用领域; |
| 主要内容：直流等离子射流法是一种成膜速率较高的制备优质金刚石薄膜的方法。本工作利用自己设计研制的直流等离子射流源进行了金刚石薄膜的低压气相合成制备。设备电源功率2kW以上,气体总流量15～20SI-M,CH_4 |
| 《人工晶体学报》 1991(Z1).347 |
| 全文下载请进入http://hightech.stlib.cn/tpi_1/sysasp/include/index.asp |
微信公众号