| MgB_2_Ta多层膜的制备及性质 |
| 周章渝;侯雪;杨晓玲;陈会;王松;卢海秋;肖植芬;傅兴华; |
| 关键词：MgB_2超导薄膜;钽薄膜;多层膜;混合物理化学气相沉积法;磁控溅射技术 |
| 主要内容：本文应用磁控溅射技术(MS)和混合物理化学气相沉积法(HPCVD)在单晶Al_2O_3基底上制备MgB_2/Ta多层膜.通过扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)和标准四线法对MgB_2/Ta试样的表面形貌、 |
| 《低温物理学报》 2016(6).65-68 |
| 全文下载请进入http://hightech.stlib.cn/tpi_1/sysasp/include/index.asp |
微信公众号