| 超导Nb薄膜的RIE刻蚀与表征 |
| 张雪;张国峰;金华;刘晓宇;王镇; |
| 关键词：超导;铌薄膜;反应离子刻蚀 |
| 主要内容：反应离子刻蚀(RIE)是超导器件制备中重要工艺流程之一.本文介绍了利用RIE对超导Nb薄膜进行刻蚀时通过调节刻蚀参数来调控薄膜侧壁的边缘倾角.由于Nb薄膜刻蚀的边缘倾角主要取决于Nb薄膜和光刻胶的刻蚀速率比,因此我们通过在RIE反应气体CF |
| 《低温物理学报》 2016(4).76-78 |
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