| Ge_2Sb_2Te_5相变薄膜的结构及结晶温度研究 |
| 齐磊;王国祥;李双;沈祥;徐培鹏;李军;吕业刚;戴世勋;聂秋 |
| 关键词：Ge15Ga10Te75;磁控溅射;XRD;SEM;透过光谱;Raman光谱;光学带隙 |
| 主要内容：采用磁控溅射法制备了Ge_(15)Ga_(10)Te_(75)薄膜,研究溅射工艺对薄膜结构与性能的影响,并分析了在不同热处理温度(200~280℃)退火后薄膜光学特性的变化。通过扫描电子显微镜、X射线衍射仪、显微拉曼光谱仪、分光光度计等测试手段对热处理前后薄膜样品的微观结构和光学特性进行 |
| 《功能材料》 2016(4).4017-4022 |
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