HCl作为添加剂提升钙钛矿薄膜太阳能电池的性能
 
张琪;赵士超;金圣忠;吕燕飞;

关键词:六方氮化硼;转移;PMMA;残留物
 
主要内容:化学气相沉积法(CVD)制备的六方氮化硼薄膜(h-BN)的清洁转移一直备受关注,h-BN从生长基底向其它目标基底转移过程中会引入PMMA残留物,影响h-BN薄膜的性质和应用.为研究PMMA残留物的去除,首先采用低压化学气相淀积法制备了h-BN薄膜并转移至基底表面,然后分别采用丙酮溶解、还原H
 
《杭州电子科技大学学报(自然科学版)》  2016(6).61-65
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