| Hg_(1-x)Cd_xSe红外薄膜材料研究进展 |
| 刘少鹏;蔡宏中;魏燕;祁小红;胡昌义; |
| 关键词：HfO2;薄膜;制备方法;晶体结构;性能 |
| 主要内容：HfO_2因具有大的介电常数、宽的带隙、低的漏电流、与Si的导带偏移较大且与Si的晶格匹配良好,在半导体工业领域获得了广泛的应用;同时,Hf O2有着高的熔点,低的导热系数及蒸发率,优良的热相容、热障及热扩散屏障等性能,是目前高温抗氧化涂层材料最具希望的候选材料。本文简述了H |
| 《陶瓷学报》 2016(3).225-229 |
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