| LuTaO_4_Ln~(3+)(Ln=Eu,Tb)透明薄膜制备改进与其发光性能研究 |
| 党元兰;赵飞;唐小平;梁广华;卢会湘;严英占;刘晓兰; |
| 关键词：LTCC;厚薄膜混合基板;平整度;粗糙度;研磨抛光;湿法刻蚀 |
| 主要内容：LTCC厚薄膜混合基板的加工工序较多,过程复杂,层压、烧结及随后的研磨和抛光工艺对其平整度和粗糙度有较大的影响。研磨抛光后基板的清洗、烘干和溅射工艺影响金属膜层与基板的结合力等;膜层体系的选取影响基板的耐焊性;光刻及湿法刻蚀工艺影响线条精度等。通过对LTCC厚薄膜混 |
| 《电子工艺技术》 2016(2).90-93 |
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