| Ti-Al-N沉积态薄膜的制备 |
| 胡春华;董学超;李淼磊;黄小忠;岳建岭; |
| 关键词:反应磁控溅射;TiAlN/TiN纳米多层膜;调制结构;超硬效应 |
| 主要内容:采用多靶反应磁控溅射制备了一系列TiAlN层厚固定,TiN层厚在一定范围内连续变化的不同调制结构的TiAlN/TiN纳米多层膜,并使用X射线衍射分析、扫描电子显微镜、纳米压痕仪和CETR-UMT-3型多功能摩擦磨损试验机对多层膜的微观结构和力学性能进行了表征和分析。研究结果表明:TiAlN/ |
| 《真空科学与技术学报》 2016(7).807-812 |
| 全文下载请进入http://hightech.stlib.cn/tpi_1/sysasp/include/index.asp |