W掺杂VO_2薄膜的椭圆偏振光谱表征
 
王盼盼;张云龙;吴岭南;曹韫真;宋力昕;章俞之;

关键词:氧化钒薄膜;相变;椭圆偏振光谱;光学常数
 
主要内容:利用MSP-3200三靶共溅射镀膜机,射频磁控溅射在石英基底上反应溅射制备单斜相(M相)VO_2薄膜及W掺杂单斜相(M相)VO_2薄膜。利用WVASE32椭圆偏振仪及变温附件在350~2 500 nm波长范围内对相变前后的VO_2薄膜及W掺杂VO_2薄膜进行光谱测试,运用Lorentz谐振子色散模型
 
《硅酸盐学报》  2016(3).464-468
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