| 掺铈PI_SnO_2复合薄膜的制备及光催化性能 |
| 李海清;高宝红;檀柏梅; |
| 关键词：掺硼金刚石电极;电势窗口;析氧电位;掺硼质量浓度;热丝化学气相沉积(HFCVD) |
| 主要内容：掺硼金刚石(BDD)薄膜电极析氧电位高、背景电流小、耐腐蚀的特性,使其在电化学应用方面受到广泛关注。采用热丝化学气相沉积(HFCVD)系统,在钽基底上制备了不同掺硼质量浓度的金刚石薄膜电极,通过扫描电子显微镜(SEM)分析了薄膜表面形貌,利用循环伏安法研究了电极的电化学特性。 |
| 《微纳电子技术》 2016(12).838-841 |
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