| 衬底材料对Ba_(0.6)Sr_(0.4)TiO_3薄膜介电性能的影响 |
| 袁俊宝;杨雯;陈小波;杨培志;宋肇宁; |
| 关键词：PECVD;沉积压力;沉积速率;光学带隙;结构因子 |
| 主要内容：采用等离子增强化学气相沉积(PECVD)系统,以乙硅烷和氢气为气源,普通钠钙玻璃为衬底制备了氢化非晶硅(a-Si∶H)薄膜,研究了沉积压力对非晶硅薄膜的沉积速率、光学带隙以及结构因子的影响。采用台阶仪、紫外可见分光光度计、傅里叶变换红外光谱仪和扫描电子显微镜等手段分别表征 |
| 《光谱学与光谱分析》 2016(2).326-330 |
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