| 磁控共溅射制备AGZO薄膜及性能分析 |
| 刘结;景晨蕾;唐武; |
| 关键词：共溅射;AGZO薄膜;结构;电阻率 |
| 主要内容：采用两靶共溅射的方法,分别采用GZO靶材及Al靶材,在不同的Al靶材溅射时间下制备AGZO薄膜。测试分析了不同Al靶溅射时间下,AGZO薄膜晶体结构、成分及相关性能的变化。其中当铝靶溅射时间为5分钟时制得的薄膜具有最优性能。 |
| 《科技创新与应用》 2016(12).294 |
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