| 磁控溅射法制备的CZGe_xT_(1-x)S薄膜的光电性能研究 |
| 段光申;丁春华;姜宏;汪国庆;王红燕;那聪; |
| 关键词：磁控溅射;ZnO透明导电薄膜;掺杂 |
| 主要内容：磁控溅射技术以其显著的优点已成为工业镀膜主要技术之一。充分发挥磁控溅射镀膜技术的现有优势,寻找新的增长点,成为近年来人们研究的热点。介绍了磁控溅射镀膜技术的原理、特点;总结了近来磁控溅射法制备掺杂ZnO薄膜,主要是Al掺杂、Si掺杂、Al-H共掺杂ZnO薄膜的研究进展。并W |
| 《材料导报》 2016(S1).235-240 |
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