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磁控溅射法制备钼薄膜的研究现状
梁婷婷;王爱琴;赵海丽;谢敬佩;
关键词:钼;薄膜;磁控溅射;制备条件;微观组织;性能
主要内容:综述了基底表面状态和预热温度,靶材组织和热处理温度,溅射工艺参数(包括时间、功率、气压和靶基距),以及后续退火热处理对磁控溅射制备的Mo薄膜组织及性能的影响。
《电镀与涂饰》 2016(24).1311-1316
全文下载请进入http://hightech.stlib.cn/tpi_1/sysasp/include/index.asp
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