| 磁控溅射铜薄膜微观结构对其电爆性能的影响 |
| 孙钢杰;伊福廷;王焕华;贾全杰;张天冲; |
| 关键词：X-射线反射率分析;铬薄膜;密度;表面形貌;磁控溅射;偏压 |
| 主要内容：利用磁控溅射技术,在不同偏压条件下在Si(001)基底上沉积了金属Cr薄膜样品。用同步辐射装置对样品进行了X-射线反射率测试,采用X-射线反射率分析法研究了不同偏压下Cr薄膜密度的变化。发现当偏压小于300 V时,偏压对所沉积的薄膜起到紧致的效果,偏压为300 V时薄膜密度最大;当偏R |
| 《电镀与精饰》 2016(7).1-3+8 |
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